擴散爐爐體

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  • 高溫擴散爐爐內(nèi)溫度均勻性檢測——CMA/CNAS資質(zhì)檢測
    高溫擴散爐檢測是針對高溫擴散爐的溫控性能、工藝適配性及安全運行指標開展的分析技術(shù)。通過性能測試與參數(shù)核驗,把控關(guān)鍵指標是否達標,直接關(guān)系半導體晶圓摻雜、光伏硅片擴散等工藝的產(chǎn)品質(zhì)..
    09月19日
  • 立式擴散爐-立式退火爐
    用途: 立式擴散爐用于半導體生產(chǎn)工藝過程中的高溫擴散,燒結(jié),退火等工藝。該系統(tǒng)具有儀表控制系統(tǒng),具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統(tǒng)。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..
    08月29日
  • 氧化鉀擴散爐磷硼擴散爐稀有金屬熱處理爐砷化鎵提純爐
    主要技術(shù)指標: ★ 爐管數(shù):1~4管 ★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性: ±1...
    08月29日
  • 微控擴散爐
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月08日
  • 程控擴散爐
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅 片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..
    11月08日
  • 氧化擴散爐
    氧化擴散爐性能特點: ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設置30步 ◆自動..
    11月08日
  • 微控擴散爐。青島發(fā)貨,可做全國,支持定制
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月04日
  • 福潤德擴散爐-廠家-支持定制
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    09月27日
  • 雙管擴散爐
    55000.00元
    雙管擴散爐的應用領域: 主要應用于半導體材料的擴散、氧化工藝,也可以用于玻璃對金屬的封裝焊接,石英制品的熱處理、LED發(fā)光粉體材料的煅燒等工藝。 主要特點: 1.采用高純石英管
    12月16日
  • 半導體材料擴散爐
    特點: 1.半導體材料擴散爐采用高純石英管作為內(nèi)爐膛,具有良好的潔凈度 2.半導體材料擴散爐的耐火、保溫材料全部采用先進的輕質(zhì)纖維制品,整機能耗低,升溫快 3.半導體材料擴散爐的
    12月16日
  • 全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版
    全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】:2017年10月 【出版機構(gòu)】:鴻晟信合研
    10月23日
  • 擴散爐真空爐鏈式爐隧道爐加熱爐體石英領馬弗爐,粉末窯爐,管式爐
    青島福潤德微電子設備有限公司(原青島福盟)坐落在美麗的海濱城市山東青島,環(huán)境優(yōu)美,交通便利,距離流亭國際機場僅五公里,現(xiàn)有廠房面積2000余平方米,固定資產(chǎn)800萬元,共有員工50余人
    09月27日
  • 中國擴散爐行業(yè)發(fā)展前景與投資戰(zhàn)略規(guī)劃建議報告
    中國擴散爐行業(yè)發(fā)展前景與投資戰(zhàn)略規(guī)劃建議報告?2020~2025年 ≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤ 節(jié)假日24小時咨詢熱線:139 2163 9537(兼并微信)(隨時來電有
    09月19日
  • 中國擴散爐行業(yè)運行態(tài)勢及前景規(guī)劃建議報告
    2020~2025年?中國擴散爐行業(yè)運行態(tài)勢及前景規(guī)劃建議報告 【報告目錄】 第一章 2019年世界擴散爐行業(yè)發(fā)展態(tài)勢分析 14 第一節(jié) 2019年世界擴散爐市場發(fā)展狀況分析 14 一、世界擴散爐行業(yè)
    09月19日
  • 中國擴散爐市場發(fā)展態(tài)勢與前景策略分析報告2021-2026年
    中國擴散爐市場發(fā)展態(tài)勢與前景策略分析報告2021-2026年【報告編號】: 346157【出版時間】: 2021年10月【出版機構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞 【報告價格】:【紙質(zhì)..
    09月19日
  • 碳化硅氧化爐-SIC高溫氧化爐
    SIC氧化爐 擴散爐 ★ 爐管數(shù):1~4管 ★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性: ±1.0℃/24h..
    08月29日
  • 擴散爐-高溫擴散爐-第四代半導體工藝設備
    設備用途:擴散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結(jié)、合金等工藝。 設備特點:單元組合方式。根據(jù)工藝的不同,可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈..
    08月29日
  • 太陽能光伏擴散爐
    太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。? 技術(shù)指標: 可處理硅片尺寸:125mm×125mm..
    11月09日
  • 程控擴散爐
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 氧化擴散爐
    氧化擴散爐性能特點: ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設置30步 ◆自動..
    11月09日
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