擴(kuò)散爐圍脖

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  • 高溫?cái)U(kuò)散爐爐內(nèi)溫度均勻性檢測——CMA/CNAS資質(zhì)檢測
    高溫?cái)U(kuò)散爐檢測是針對高溫?cái)U(kuò)散爐的溫控性能、工藝適配性及安全運(yùn)行指標(biāo)開展的分析技術(shù)。通過性能測試與參數(shù)核驗(yàn),把控關(guān)鍵指標(biāo)是否達(dá)標(biāo),直接關(guān)系半導(dǎo)體晶圓摻雜、光伏硅片擴(kuò)散等工藝的產(chǎn)品質(zhì)..
    09月19日
  • 立式擴(kuò)散爐-立式退火爐
    用途: 立式擴(kuò)散爐用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝過程中的高溫?cái)U(kuò)散,燒結(jié),退火等工藝。該系統(tǒng)具有儀表控制系統(tǒng),具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統(tǒng)。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..
    08月29日
  • 氧化鉀擴(kuò)散爐磷硼擴(kuò)散爐稀有金屬熱處理爐砷化鎵提純爐
    主要技術(shù)指標(biāo): ★ 爐管數(shù):1~4管 ★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃) ★ 單點(diǎn)穩(wěn)定性: ±1...
    08月29日
  • 氧化擴(kuò)散爐
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn): ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    11月08日
  • 程控?cái)U(kuò)散爐
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅 片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..
    11月08日
  • 微控?cái)U(kuò)散爐
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月08日
  • 微控?cái)U(kuò)散爐。青島發(fā)貨,可做全國,支持定制
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月04日
  • 福潤德擴(kuò)散爐-廠家-支持定制
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    09月27日
  • 半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐
    特點(diǎn): 1.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐采用高純石英管作為內(nèi)爐膛,具有良好的潔凈度 2.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的耐火、保溫材料全部采用先進(jìn)的輕質(zhì)纖維制品,整機(jī)能耗低,升溫快 3.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的
    12月16日
  • 雙管擴(kuò)散爐
    55000.00元
    雙管擴(kuò)散爐的應(yīng)用領(lǐng)域: 主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的擴(kuò)散、氧化工藝,也可以用于玻璃對金屬的封裝焊接,石英制品的熱處理、LED發(fā)光粉體材料的煅燒等工藝。 主要特點(diǎn): 1.采用高純石英管
    12月16日
  • 全球與中國市場擴(kuò)散爐趨勢展望與投資機(jī)遇分析報(bào)告2017年版
    全球與中國市場擴(kuò)散爐趨勢展望與投資機(jī)遇分析報(bào)告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】:2017年10月 【出版機(jī)構(gòu)】:鴻晟信合研
    10月23日
  • 中國擴(kuò)散爐行業(yè)發(fā)展前景與投資戰(zhàn)略規(guī)劃建議報(bào)告
    中國擴(kuò)散爐行業(yè)發(fā)展前景與投資戰(zhàn)略規(guī)劃建議報(bào)告?2020~2025年 ≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤ 節(jié)假日24小時(shí)咨詢熱線:139 2163 9537(兼并微信)(隨時(shí)來電有
    09月19日
  • 中國擴(kuò)散爐行業(yè)運(yùn)行態(tài)勢及前景規(guī)劃建議報(bào)告
    2020~2025年?中國擴(kuò)散爐行業(yè)運(yùn)行態(tài)勢及前景規(guī)劃建議報(bào)告 【報(bào)告目錄】 第一章 2019年世界擴(kuò)散爐行業(yè)發(fā)展態(tài)勢分析 14 第一節(jié) 2019年世界擴(kuò)散爐市場發(fā)展?fàn)顩r分析 14 一、世界擴(kuò)散爐行業(yè)
    09月19日
  • 中國擴(kuò)散爐市場發(fā)展態(tài)勢與前景策略分析報(bào)告2021-2026年
    中國擴(kuò)散爐市場發(fā)展態(tài)勢與前景策略分析報(bào)告2021-2026年【報(bào)告編號】: 346157【出版時(shí)間】: 2021年10月【出版機(jī)構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞 【報(bào)告價(jià)格】:【紙質(zhì)..
    09月19日
  • 碳化硅氧化爐-SIC高溫氧化爐
    SIC氧化爐 擴(kuò)散爐 ★ 爐管數(shù):1~4管 ★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃) ★ 單點(diǎn)穩(wěn)定性: ±1.0℃/24h..
    08月29日
  • 擴(kuò)散爐-高溫?cái)U(kuò)散爐-第四代半導(dǎo)體工藝設(shè)備
    設(shè)備用途:擴(kuò)散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝。 設(shè)備特點(diǎn):單元組合方式。根據(jù)工藝的不同,可以在主機(jī)的基礎(chǔ)上配氣源柜、超凈..
    08月29日
  • 太陽能光伏擴(kuò)散爐
    太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。? 技術(shù)指標(biāo): 可處理硅片尺寸:125mm×125mm..
    11月09日
  • 程控?cái)U(kuò)散爐
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月09日
  • 氧化擴(kuò)散爐
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn): ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    11月09日
  • 微控?cái)U(kuò)散爐
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月09日
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