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南京半導體晶片切割制造用水設備，EDI清洗超純水設備

更新時間：2025-05-17 信息編號：ff1l7v6ng1a6a0
南京半導體晶片切割制造用水設備，EDI清洗超純水設備

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南京半導體晶片切割制造用水設備，EDI清洗超純水設備

產(chǎn)品別名
工業(yè)純水機
面向地區(qū)
品牌
達方
處理類別
純水機
加工定制
是
容量
其它
原理
反滲透
電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環(huán)保技術。
EDI凈水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人看管等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種技術的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。
⒈工作原理：電去離子（EDI）系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板（甲、乙）多組交替排列，構成濃室和淡室（即陽離子可透過陽膜，陰離子可透過陰膜）.淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化，提純，濃縮或精制的目的。
⒉系統(tǒng)優(yōu)點：1. 無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生， 而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁 重的工作。
⒉ 連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的， 產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。
⒊ 降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結構，可依據(jù)場地的高度和窨靈活地構造。模塊化的設計， 使EDI在生產(chǎn)工作時能方便維護。

安徽達方環(huán)保設備有限公司 6年

  • 純水設備,反滲透設備,超純水設備,水處理設備
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