| 供應(yīng)商 | 廈門(mén)良廈貿(mào)易有限公司 店鋪 |
|---|---|
| 認(rèn)證 | |
| 報(bào)價(jià) | 面議 |
| 規(guī)格 | 其它 |
| 結(jié)構(gòu)型式 | 分立式 |
| 顯示方式 | 指針式 |
| 關(guān)鍵詞 | 美國(guó)Futurrex光刻膠 |
| 所在地 | 福建廈門(mén)市湖里區(qū)林后社677號(hào)之104 |
8年
厚膜負(fù)性光刻膠
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厚膜負(fù)性光刻膠 – 刪減或添加工藝 | |
· 刪減&模型應(yīng)用
o 硅的深度刻蝕，類如博施工藝（波希法），玻璃及聚合體
o 硅的浮雕模型
· 添加應(yīng)用
o 用于倒轉(zhuǎn)（裝）芯片封裝，多芯片組件，微系統(tǒng)，感光芯片，薄膜磁頭的高縱橫比電鍍凸塊的制作
· 刪減模型的特性
o 的耐溫性適用于離子刻蝕及離子銑削制程
o 在深度刻蝕中比正膠有更多的選擇性
o 對(duì)小于380nm的波長(zhǎng)有很好的靈敏度
· 添加應(yīng)用的特性
o 在電鍍制程中有很好的粘附性
o 電鍍后用FUTURREX的去膠液易于去除
o 對(duì)小于380nm的波長(zhǎng)有很好的靈敏度
· 對(duì)生產(chǎn)率的影響
o 省去了溶劑顯影和溶劑漂洗制程步驟
· 優(yōu)勢(shì)
o 良好的線寬控制
o 側(cè)壁的垂直度不隨膜后（厚）而變
o 單次旋涂可達(dá)到100微米厚度
o 在厚膜應(yīng)用中有很好的分辨率
o 的光刻速度可以提高曝光效率
o 便于增加功率密度在離子刻蝕/離子銑削制程中，從而提高蝕刻效率
o 單個(gè)顯影液可適用于正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
o 無(wú)需使用增粘劑
光刻膠PI-2610、PI-261
面議
產(chǎn)品名：光刻膠,PI-2610、PI-261,HD-3008,HD-3007
聚酰亞胺、PI膠、光刻膠HD-4110
面議
產(chǎn)品名：聚酰亞胺、光刻膠,HD-4110,HD-8850,HD-3008
RDA-800光刻膠顯影分析儀
面議
產(chǎn)品名：RDA-800,光刻膠,光刻膠顯影分析儀
MICROPOSITRMF-319DEVELOPER
面議
產(chǎn)品名：MF-319顯影液,光刻膠又稱光致抗蝕劑,AZ6130,AZ5214
安智AZ1500AZ6112AZ6130AZ3100光刻膠顯影液剝離液
面議
產(chǎn)品名：AZ3100,光刻膠顯影液,AZ6130,AZ P4400
光刻膠AZ6112AZ6130
面議
產(chǎn)品名：光刻膠 AZ6112 AZ6130,AZ6112,AZ50XT,AZGXR-601
顯影液剝離液安智AZ400KAZ300MIF
面議
產(chǎn)品名：AZ300MIF,安智AZ400K,顯影液剝離液
安智AZ1500AZ6112AZ6130AZ3100光刻膠
面議
產(chǎn)品名：AZ3100,AZ6112,Z6130,光刻膠