陽離子表面活性劑是改性MMT常用且使用多的一類有機改性劑，其改性機理為：陽離子表面活性劑通過與MMT層間的陽離子進行離子交換，使得陽離子表面活性劑能夠順利進入MMT層間，使MMT由疏油性變成親油性，且增大了MMT的層間距，有利于聚合物鏈進一步的插層。
蒙脫土（MMT）是一種儲量且廉價的天然礦物資源，具有特的片層結(jié)構(gòu)，是增強聚合物材料性能的一種高性價比填料。當MMT在聚合物基體中實現(xiàn)良好分散時，能夠明顯提高聚合物材料的力學性能、氣密性能、熱穩(wěn)定性能和阻燃性能等。但因其表面的親水性，導致與聚合物相容性差，難以實現(xiàn)良好分散，因此，對其進行有機化改性。
涂料所用的技術(shù)是將有機活化劑分子插層到層狀硅酸鹽(蒙脫土)中，再將該蒙脫土與其他原料和樹脂混合，這將確保蒙脫土顆粒以納米尺度均勻分散在涂料中，增強了無機物與樹脂間的相互作用，從而使漆膜的性能得到改善。將納米蒙脫土粒子作為改性劑，使得粒子間的自聚作用降低，并以納米顆粒的形式均勻地分散在涂料中。
制備有機活化蒙脫土：將膨潤土經(jīng)提純制得蒙脫土，再進行有機活化，方法是將1～50份的膨潤土加入到100～1 000份的分散劑中，在50～80℃下高速攪拌形成懸浮體系，除去沉淀物，將 0～20份質(zhì)子化劑加入到懸浮液中，攪拌均勻，形成懸浮液A備用。將0.1～20.0份有機活化劑溶于20～300份分散劑中，形成溶液B。將溶液B滴加到70～90℃的懸浮液A中，邊滴加邊攪拌，滴加時間應(yīng)控制在0.5～3.0 h內(nèi)，制得插層蒙脫土懸浮液。經(jīng)洗滌、干燥和粉碎等程序制成50～150 μm的有機活化蒙脫土。
近年來，有關(guān)聚氨酯/蒙脫土納米復合材料的研究受到了人們廣泛的重視，這是由于納米蒙脫土具有較高的比表面積，同傳統(tǒng)材料相比較，蒙脫土納米復合材料可以賦予聚氨酯復合材料許多性能，如改善其化學性能。氣密性、防腐性、耐候性、耐化學性等，通過加入少量（1%-7%）的納米蒙脫土，可以使聚氨酯的強度和伸長率等性能同時得到提高。
蒙脫土----有商業(yè)用途的無機高分子類增稠劑 無機高分子類增稠劑一般具有三層的層狀結(jié)構(gòu)或-個擴張的格子結(jié)構(gòu)，有商業(yè)用途的兩類是蒙脫土和水輝石。其增稠機理是無機高分子在水中分散時，其中的金屬離子從晶片往外擴散，隨著水合作用的進行，它發(fā)生溶脹，到后片晶完全分離，其結(jié)果形成陰離子層狀結(jié)構(gòu)片晶和金屬離子的透明膠體懸浮液。在這種情況下，片晶帶有表面負電荷，它的邊角由于出現(xiàn)晶格斷裂面而帶有少量的正電荷。在稀溶液中，其表面的負電荷比邊角的正電荷大，粒子之間發(fā)生相互排斥，故不會產(chǎn)生增稠作用。隨著電解質(zhì)的加入和濃度增加，溶液中離子濃度的增加，片晶表面電荷減少。這時，主要的相互作用由片晶間的排斥力轉(zhuǎn)變?yōu)槠П砻娴呢撾姾膳c邊角正電荷之間的吸引力，平行的片晶相互垂直地交聯(lián)在一起形成所謂“紙盒式間格”的結(jié)構(gòu)，引起溶脹產(chǎn)生膠凝從而達到增稠的效果。離子濃度進一步加大又會破壞結(jié)構(gòu)發(fā)生絮凝導致降低稠度。這類增稠劑主要用于牙膏、香波、護發(fā)素、膏霜、乳液和止汗劑等的增稠。稠度一般隨著濃度的增加而迅速增大隨后趨于平緩，流變形態(tài)為觸變性。除具增稠性能外，在體系中還有穩(wěn)定乳液、懸浮作用。其改性物主要是季銨鹽化，改性后具有親油性，可用于含油量多的體系。
蒙脫土由于層間的大量無機離子而表現(xiàn)出來的疏油性，不利于其在聚合物基體中的分散，因此要對其進行有機改性。蒙脫土常用的有機改性劑有陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、非離子表面活性劑、聚合物單體和偶聯(lián)劑等。例如采用陽離子表面活性劑改性常用十六或十八烷基基等季銨鹽處理蒙脫土，發(fā)生陽離子交換反應(yīng)。使有機基團覆蓋蒙脫土表面或揷入其層間，使其表面能發(fā)生變化，增大了層間距，使其由原來的親水性轉(zhuǎn)變?yōu)橛H油性。
天然蒙脫土按其層間可交換陽離子的種類分為氫基、鈣基、鈉基、鋰基等蒙脫土，以鈣基蒙脫土為主，但其性能較差，產(chǎn)品附加價值低。鈉基蒙脫土比鈣基蒙脫土有更好的膨脹性、陽離子交換性，水介質(zhì)中的分散性、粘性、潤滑性、熱穩(wěn)定性及較高熱濕壓強度和抗壓強度?？捎肗aCl乙醇溶液、碳酸鈉、焦磷酸鈉、多聚磷酸鈉作為改性劑交換鈣基蒙脫土為鈉基蒙脫土。
蒙脫土又名膠嶺石、微晶高嶺石，一種硅酸鹽的天然礦物，為膨潤土礦的主要礦物組分。蒙脫土（包括鈣基、鈉基、鈉-鈣基、鎂基蒙脫土）經(jīng)剝片分散、提純改型、超細分級、特殊有機復合，平均晶片厚度小于25nm，可作漂白劑、吸附劑填充劑、聚合物改性劑，被稱為“材料”。
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