遠源等離子體濺射

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  • 等離子體源火炬單腔ECR等離子體源等離子體源濺射
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    照明：微波等離子體源可用于制造高強度放電燈，如用于投影儀或汽車前燈的金屬鹵化物燈。 醫(yī)學(xué)應(yīng)用：微波等離子體源可用于醫(yī)療消毒和手術(shù)中的組織電凝?？茖W(xué)研究：微波等離子體源在等離子體物..
    09月16日
  • 等離子體源火炬2.45GHz順流等離子體源等離子體源濺射
    面議
    材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積高質(zhì)量薄膜，或改變材料的表面特性。電子器件制造：ECR等離子體源在半導(dǎo)體工業(yè)中，微波等離子體..
    09月16日
  • 等離子體源等離子體源濺射
    面議
    材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積高質(zhì)量薄膜，或改變材料的表面特性。照明：微波等離子體源可用于制造高強度放電燈，如用于投影儀..
    09月16日
  • 等離子體源火炬Hi-Wave等離子體源等離子體源濺射
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    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具..
    09月16日
  • 等離子體源火炬等離子體源等離子體源濺射
    面議
    材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積高質(zhì)量薄膜，或改變材料的表面特性。電子器件制造：ECR等離子體源在半導(dǎo)體工業(yè)中，微波等離子體..
    09月16日
  • 等離子體源火炬ECR同軸等離子體源等離子體源濺射
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    在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具有產(chǎn)生等離子體的獨特優(yōu)勢。在這個頻率下，微波可以有效地與氣體的電子共振，從而提高電離效率。此外，2.45 GHz 頻率允許使用相對較小的腔體尺寸，這對于緊湊..
    09月16日
  • 等離子體源火炬S-Wave等離子體源等離子體源濺射
    面議
    科學(xué)研究：微波等離子體源在等離子體物理學(xué)、材料科學(xué)和航空航天研究中都有應(yīng)用。它們可用于研究等離子體行為、材料相互作用以及模擬太空環(huán)境。微波等離子體源的設(shè)計和操作可能很復(fù)雜，需要仔..
    09月16日
  • 等離子體源火炬Aura-Wave等離子體源等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。照明：微波等離子體源可用于制造..
    09月16日
  • 等離子體源火炬Downstream等離子體源等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。照明：微波等離子體源可用于制造..
    09月16日
  • 單腔ECR等離子體源等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具..
    09月16日
  • ECR同軸等離子體源等離子體源濺射
    面議
    材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積高質(zhì)量薄膜，或改變材料的表面特性。微波等離子體源的設(shè)計和操作可能很復(fù)雜，需要仔細控制微波功..
    09月16日
  • S-Wave等離子體源等離子體源濺射
    面議
    材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積高質(zhì)量薄膜，或改變材料的表面特性。照明：微波等離子體源可用于制造高強度放電燈，如用于投影儀..
    09月16日
  • Hi-Wave等離子體源等離子體源濺射
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    電子器件制造：ECR等離子體源在半導(dǎo)體工業(yè)中，微波等離子體源可用于清潔晶圓、蝕刻硅片和沉積薄膜層。其結(jié)構(gòu)小巧，可以多個等離子體源組成等離子墻，或者不同形狀以使之便于不同情況的工程應(yīng)..
    09月16日
  • ICP27MHz等離子體源等離子體源濺射
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    科學(xué)研究：微波等離子體源在等離子體物理學(xué)、材料科學(xué)和航空航天研究中都有應(yīng)用。它們可用于研究等離子體行為、材料相互作用以及模擬太空環(huán)境。Sirem微波等離子體源源被設(shè)計成獨立或遠程操作..
    09月16日
  • 2.45GHz順流等離子體源等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。微波等離子體源的設(shè)計和操作可能..
    09月16日
  • Surgaguid等離子體源等離子體源濺射
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    Sairem公司是法國一家專注于提供微波源、微波等離子體源的公司，它的微波源被廣泛應(yīng)用于PECVD法制造生長金剛石設(shè)備中，等離子體源用于清洗、噴濺、蝕刻等設(shè)備中。Sirem微波等離子體源源被設(shè)計..
    09月16日
  • Aura-Wave等離子體源等離子體源濺射
    面議
    照明：微波等離子體源可用于制造高強度放電燈，如用于投影儀或汽車前燈的金屬鹵化物燈。 醫(yī)學(xué)應(yīng)用：微波等離子體源可用于醫(yī)療消毒和手術(shù)中的組織電凝。Sirem微波等離子體源源被設(shè)計成獨立或遠..
    09月16日
  • Downstream等離子體源等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。Sirem微波等離子體源源被設(shè)計成..
    09月16日
  • ICP13.56MHz等離子體源等離子體源濺射
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    Sairem是一家專注于射頻與微波技術(shù)的公司，其微波源產(chǎn)品可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的加熱和干燥需求，包括醫(yī)藥領(lǐng)域的藥材加熱。 在藥材加熱方面，Sairem的微波源可以提供高頻率、高功率的微波能量，用..
    09月16日
  • ECR同軸等離子體源等離子體源火炬等離子體源濺射
    面議
    2.45 GHz 微波等離子體源是一種用于產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，它利用 2.45 GHz（千兆赫）的微波頻率來產(chǎn)生電離氣體。這種技術(shù)在各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用中都有重要應(yīng)用。在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具..
    09月16日
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