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39800.00元小型磁控濺射真空控制 KT-Z1650PVD水冷式濺射源，可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行，有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬..04月09日 -
98000.00元二手韓一磁控濺射鍍膜機/雙靶磁控真空鍍膜機/磁控光學鍍膜機介紹 磁控濺射鍍膜技術是一種的表面處理技術，被廣泛應用于各種領域。它利用磁場和電場的相互作用，將靶材表面的電子從束縛狀態(tài)激..09月16日
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面議磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術，它涉及使用高能量的離子（通常是氬離子）轟擊作為靶材的涂層材料，使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測標準（部分）1、 T/GV..09月17日
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150000.00元內直徑1900*高度1250實力源中頻磁控濺射鍍膜機兩套出售 配3套400中科儀分子泵，3套70旋片泵，一套羅次泵，4路ae流量計 鍍手機配件，鐘表，首飾，五金零件，貴金屬鍍顏色膜，光學磁控濺射膜07月02日
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實力源多弧+中頻磁控濺射鍍膜機:內腔直徑1680*高度1200，主抽配置3臺400中科儀分子泵+1臺翠曼600羅次泵+2臺70南光機械泵，輔抽配置一臺翠曼300羅次泵+1臺70南光機械泵，配置10個佳寧250A弧電..07月02日
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10000.00元二手穩(wěn)壓電源 中頻電源20-60KW電源 直流電源二手弧電源 真空鍍膜電源 輸入相數(shù)：單相或三相 電壓：220/380V 頻率：50Hz 輸入方式：4線（含地線） 輸出波形：直線 功率：30KW /60KW /..07月02日
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200.00元美國AE公司 中頻電源PE II 性能： 1.程序自動保護功能 2.控制信號源：模擬/數(shù)字端口或前面板控制 3.調節(jié)模式：功率，電壓或者電流 4.冷卻及周圍環(huán)境溫度：進口端冷卻水的溫度在+5℃到+30 ..07月02日
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39800.00元濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度可調節(jié)及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大..06月11日
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43800.00元金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，大功率1000w直流磁控濺射 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與..08月18日
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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設..08月02日
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35600.00元離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現(xiàn)不導電樣品的能譜儀元..03月22日
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38600.00元小型磁控濺射儀主要特點/優(yōu)勢： ★ 玻璃鐘罩真空腔室，直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察； ★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計； ★ 真空..02月11日
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1008.00元鈦鋁合金靶材我們能提供的成分：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我們能提供的純度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我們的..12月16日
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4350.00元聲明由于原材料價格波動較大，且產(chǎn)品價格與產(chǎn)品尺寸、純度等因..12月14日
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