高純?yōu)R射靶材信息我要推廣到這里
- 價格
- 公司
- 信息報價
-
1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日 -
1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
-
產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99. 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺01月28日
-
鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..01月16日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月17日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月10日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..11月06日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..10月28日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..09月28日
-
鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..09月18日
-
高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月27日
-
鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..08月17日
-
純度：純鉬≥99.95%，高溫鉬≥99%（添加稀土元素） 密度：≥10.2g/cm3 熔點：2610℃ 供貨狀態(tài)：成品態(tài) 規(guī)格：根據(jù)客戶要求定制 生產(chǎn)工藝流程： 鉬坯(原材料)-檢驗-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機械05月28日
-
產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛03月07日
-
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光01月17日
-
鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..01月17日
-
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光12月20日
-
鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..12月20日
-
產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛12月20日
-
鉬籽晶夾頭 產(chǎn)品名稱 鉬籽晶夾頭 純度 ≥99.95% 規(guī)格 按照圖紙或樣品加工 品牌名稱 四豐 原產(chǎn)地 洛陽 應(yīng)用 單晶爐 成分(供參考) 最少為99.95%的鉬含量99.95% 元素 W Si O Ni Na N..12月07日
黃頁88網(wǎng)提供2025最新高純?yōu)R射靶材價格行情，提供優(yōu)質(zhì)及時的高純?yōu)R射靶材圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產(chǎn)品報價來源于共4家高純?yōu)R射靶材批發(fā)廠家/公司提供的83002條信息匯總。
友情鏈接
