半導體擴散爐

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  • 微控擴散爐。青島發(fā)貨，可做全國，支持定制
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    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月04日
  • 立式擴散爐-立式退火爐
    888.00元
    用途： 立式擴散爐用于半導體生產(chǎn)工藝過程中的高溫擴散，燒結(jié)，退火等工藝。該系統(tǒng)具有儀表控制系統(tǒng)，具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統(tǒng)。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..
    08月29日
  • 福潤德擴散爐-廠家-支持定制
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    09月27日
  • 高溫擴散爐爐內(nèi)溫度均勻性檢測——CMA/CNAS資質(zhì)檢測
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    高溫擴散爐檢測是針對高溫擴散爐的溫控性能、工藝適配性及安全運行指標開展的分析技術(shù)。通過性能測試與參數(shù)核驗，把控關鍵指標是否達標，直接關系半導體晶圓摻雜、光伏硅片擴散等工藝的產(chǎn)品質(zhì)..
    09月19日
  • 氧化鉀擴散爐磷硼擴散爐稀有金屬熱處理爐砷化鎵提純爐
    888.00元
    主要技術(shù)指標： ★ 爐管數(shù)：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性： ±1...
    08月29日
  • 微控擴散爐
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月08日
  • 程控擴散爐
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅 片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..
    11月08日
  • 氧化擴散爐
    面議
    氧化擴散爐性能特點： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設置30步 ◆自動..
    11月08日
  • 半導體材料擴散爐
    45000.00元
    特點： 1.半導體材料擴散爐采用高純石英管作為內(nèi)爐膛，具有良好的潔凈度 2.半導體材料擴散爐的耐火、保溫材料全部采用先進的輕質(zhì)纖維制品，整機能耗低，升溫快 3.半導體材料擴散爐的
    12月16日
  • 雙管擴散爐
    55000.00元
    雙管擴散爐的應用領域： 主要應用于半導體材料的擴散、氧化工藝，也可以用于玻璃對金屬的封裝焊接，石英制品的熱處理、LED發(fā)光粉體材料的煅燒等工藝。 主要特點： 1.采用高純石英管
    12月16日
  • 全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版
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    全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】：2017年10月 【出版機構(gòu)】：鴻晟信合研
    10月23日
  • 擴散爐-高溫擴散爐-第四代半導體工藝設備
    888.00元
    設備用途：擴散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結(jié)、合金等工藝。 設備特點：單元組合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈..
    08月29日
  • 太陽能光伏擴散爐
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    太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。? 技術(shù)指標： 可處理硅片尺寸：125mm×125mm..
    11月09日
  • 程控擴散爐
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 氧化擴散爐
    面議
    氧化擴散爐性能特點： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設置30步 ◆自動..
    11月09日
  • 微控擴散爐
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 微控擴散爐
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 微控擴散爐青島福潤德
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    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 程控擴散爐青島福潤德
    面議
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微..
    11月09日
  • 氧化擴散爐
    面議
    氧化擴散爐性能特點： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設置30步 ◆自動..
    11月08日
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