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鍍膜設(shè)備應(yīng)該在高真空下工作,真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時鍍膜設(shè)備的真空值抽不出來或是真空值不太好,可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗方式應(yīng)該鍍膜設(shè)備關(guān)機,充氮,再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡,整個過程用時費事極易錯判,針對微小的泄露沒法檢驗。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體,小漏率低于5E-13Pam3/s,安全環(huán)保,檢漏時無需關(guān)機,立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進行檢驗了。
對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法:
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù),因為檢漏率,簡單易使用,儀器設(shè)備反映靈敏,,不容易受別的氣體的影響,在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理,用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子,在房間內(nèi)不停地震蕩,并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵,這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場,因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),產(chǎn)生圓弧狀軌道,更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏,鍍膜機不需要停機,直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀,在懷疑有漏的地方噴氦氣,即可完成檢漏。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用十分廣泛,如今在我們的生活中到處可見,是的一項技術(shù)。但是真空鍍膜設(shè)備在使用一段時間后,表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
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