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常見(jiàn)問(wèn)題
氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分,其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆??商峁└?xì)膩的拋光效果,而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外,氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性,能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外,還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細(xì)的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術(shù)具有特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng),是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上,根據(jù)所要拋光的表面,加入相應(yīng)的化學(xué)試劑,從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性拋光的效果。化學(xué)機(jī)械拋光液的性能是影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分,各種添加劑的選擇和含量對(duì)拋光效果都會(huì)產(chǎn)生很大的影響。目前市場(chǎng)上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型,其中常見(jiàn)的為α、β、γ等,一般選用50~200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的研磨及拋光等表面處理: 1、手機(jī)殼,陶瓷,玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光(機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光)、手動(dòng)拋光(研磨拋光)等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。 2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、 3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。 4、汽車油漆打磨拋光,樹(shù)脂拋光等,油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。 5、 劃痕去除:寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕;汽車,船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液,用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨,很快就光亮如新,無(wú)一點(diǎn)擦痕。氧化鋁拋光液是一種廣泛應(yīng)用于金相樣品拋光的材料。這種材料具備納米級(jí)的特點(diǎn),它擁有猶如牛奶般絲滑的質(zhì)感,和被它拋光的東西一樣,它的樣子也是十分美觀。
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