拋光機操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到大的拋光速率,以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響終觀察到的組織,即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料,以有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。
精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高,拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),已逐步引起有關(guān)的重視。國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備,正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。
圓盤拋光機主要由一個圓盤、拋光立柱(拋光立柱的數(shù)量根據(jù)產(chǎn)品的加工工藝來定)、電控箱及研磨劑供給系統(tǒng)組成。